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表麵(miàn),體積電阻(zǔ)率(shuài)測(cè)試儀設(shè)備原理
根(gēn)據歐姆定律,被(bèi)測電(diàn)阻Rx等於(yú)施(shī)加電壓(yā)V除以(yǐ)通(tōng)過(guò)的電(diàn)流I。傳統的(dí)高阻計的工作(zuò)原理是測量電壓V固定(dìng),通(tōng)過測量流過取(qǔ)樣電(diàn)阻的電(diàn)流I來(lái)得到(dào)電(diàn)阻(zǔ)值。從歐姆定律可以(yǐ)看(kàn)出,由於電流I是與(yǔ)電阻成反比,而不是成(chéng)正比,所以(yǐ)電(diàn)阻的顯示值是非綫(xiàn)性的,即電(diàn)阻無(wú)窮(qióng)大(dà)時(shí),電流為零,即表頭(tóu)的零(líng)位(wèi)處(chǔ)是∞,其(qí)附近的刻度非(fēi)常(cháng)密,分辨(biàn)率很(hěn)低(dī)整個(gè)刻(kè)度(dù)是非綫(xiàn)性的(dí)。又由(yóu)於(yú)測量(liáng)不同(tóng)的(dí)電(diàn)阻時,其電壓V也會有些(xiē)變(biàn)化,所以(yǐ)普(pǔ)通的高(gāo)阻(zǔ)計是(shì)精度(dù)差,分辨(biàn)率低(dī)。
數(shù)字型表麵(miàn)體(tǐ)積(jī)電(diàn)阻率測(cè)試(shì)儀是同時(shí)測(cè)出(chū)電(diàn)阻兩(liǎng)端的(dí)電壓(yā)V和流過電阻(zǔ)的電(diàn)流I,通(tōng)過內部的大(dà)規(guī)模(mó)集成電路(lù)完(wán)成(chéng)電壓除以電(diàn)流的(dí)計算(suàn),然後(hòu)把(bǎ)所得到的結(jié)果經過A/D轉換後(hòu)以數(shù)字顯(xiǎn)示出電阻值(zhí),即(jí)便(biàn)是(shì)電阻兩端(duān)的電(diàn)壓V和流過(guò)電阻(zǔ)的電(diàn)流(liú)I是(shì)同時變化,其顯(xiǎn)示的電阻值不(bù)象(xiàng)普通高阻計那樣因(yīn)被測電壓V的變(biàn)化或電(diàn)流I的變化而變(biàn),所以(yǐ),即使測量(liáng)電(diàn)壓,被(bèi)測量電(diàn)阻(zǔ),電源電壓等發(fā)生變化對其結(jié)果影響不大(dà),其(qí)測量精度很高(gāo) ,從理論上講(jiǎng)其誤(wù)差(chà)可(kě)以做到零(líng),而(ér)實際誤差可以做到(dào)千分(fēn)之幾或(huò)萬分之幾。

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