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電子(zǐ)光(guāng)是(shì)一(yī)交替(tì)變換(huàn)的(dí)電磁(cí)波(bō),其中(zhōng)電場與磁(cí)場(cháng)方(fāng)向相(xiāng)互垂(chuí)直,光會(huì)在介質晶體(tǐ)中誘導電極化(huà)而光(guāng)本身也會(huì)受(shòu)此晶體(tǐ)的(dí)影(yǐng)響。電(diàn)子光的交(jiāo)替(tì)變化(huà)頻率(shuài)是如此之高(gāo)(~1015Hz),以致隻(zhī)有電(diàn)子極(jí)化部(bù)分能跟上電場(cháng)的(dí)變化,因而(ér)晶體(tǐ)的(dí)相對(duì)介(jiè)電常(cháng)數非常(cháng)小,不超(chāo)過10.高頻(pín)下(xià)的(dí)介(jiè)電(diàn)常(cháng)數ε與(yǔ)折射率n存在(zài)下(xià)列(liè)關係

一(yī)般(bān)來(lái)說,折射(shè)率(shuài)是(shì)對稱的二階張量,可(kě)以用(yòng)折射光率(shuài)體(tǐ)來表示
式(shì)中,n1,n2和(hé)n3是主折(zhē)射率(shuài)。
當一(yī)外電場(cháng)施加(jiā)到晶體上(shàng)時(shí),產(chǎn)生離子位(wèi)移,並(bìng)改變電(diàn)子(zǐ)雲的形(xíng)狀,結果導致折射率(shuài)發生(shēng)變化(huà),這(zhè)種現象(xiàng)就稱為(wéi)電光效應。在外(wài)電(diàn)場作(zuò)用下,晶體光學性(xìng)質的(dí)改(gǎi)變可以用(yòng)折射光(guāng)率(shuài)體三個軸(zhóu)的(dí)方向和長(cháng)度的變化(huà)來(lái)表示。在(zài)同(tóng)一坐(zuò)標係中(zhōng),光率(shuài)體橢球(qiú)方(fāng)程變為(wéi)

折射(shè)率的變化,它(tā)們的解析式(shì)一(yī)般是不知道的。但(dàn)根據數(shù)學級(jí)的性質(zhì),它總可以(yǐ)用(yòng)展(zhǎn)開(kāi)成冪級(jí)數的(dí)形式表(biǎo)示,並且(qiě)根(gēn)據(jù)外電場(cháng)對晶體(tǐ)光學性質的(dí)附加作(zuò)用相對微(wēi)弱(ruò)這(zhè)一事實(shí);級(jí)數(shù) 可以(yǐ)隻(zhī)取前兩(liǎng)項(xiàng) ,即(jí)

式就(jiù)是電光效(xiào)應的數學表(biǎo)達式。式(shì)中(zhōng)右邊第(dì)yi項(xiàng)是(shì)與外(wài)電(diàn)場的一(yī)次方(fāng)成正(zhèng)比關係 ,稱為一次(cì)電(diàn)光效應 ,或(huò)玻(bō)克(kè)爾斯(sī)效(xiào)應 𝑟𝑙𝑗稱(chēng)為(wéi)綫性電(diàn)光(guāng)係數 ,單位為(wéi) m /V ;第(dì)二(èr)項是與(yǔ)外電場的(dí)二次方(fāng)成正(zhèng)比關係 ,稱(chēng)為二次(cì)電光效應 ,或(huò)克爾效(xiào)應(yīng) 𝑔𝑙𝑗𝑘稱(chēng)為(wéi)二次(cì)電(diàn)光(guāng)係(xì)數(shù)或克(kè)爾係數單(dān)位為𝑚2/𝑉2。 γ和(hé) g 均可通過(guò)實(shí)驗測(cè)定 。一般(bān)的電(diàn)光晶(jīng)體(tǐ)如(rú)KDP 晶(jīng)體等 γ≫g ,即(jí)綫(xiàn)性(xìng)電(diàn)光效(xiào)應是主(zhǔ)要的 。
需要指(zhǐ)出(chū) 因(yīn)為 各向異(yì)性(xìng)晶體(tǐ)的折射率(shuài)是(shì)二(èr)階張(zhāng)量 ,且可以證明折(zhē)射率(shuài) 𝑛𝑖𝑗=𝑛𝑗𝑖,不受 E k 的(dí) 影響(xiǎng) ,故將(jiāng)兩個(gè)下標 ij 簡化為一個 l, l與(yǔ) ij 的關(guān)係是
透(tòu)明鐵電陶瓷(cí)的光(guāng)學性質(zhì)對當代(dài)許多(duō)新技(jì)術如(rú)激光技(jì)術技術(shù)如(rú)激(jī)光技(jì)術(shù),計算(suàn)機(jī)技術,,計算(suàn)機技術(shù),全(quán)息存貯(zhù)與顯(xiǎn)示以(yǐ)及光(guāng)電子學等新學科(kē)的(dí)全息存(cún)貯與(yǔ)顯示以及光電(diàn)子學(xué)等新學科的(dí)發(fā)展具有一定推(tuī)動作用(yòng),而發展具(jù)有(yǒu)一(yī)定推動作用,而其電(diàn)光(guāng)效(xiào)應(yīng)的應用(yòng)都是以電控雙折射和(hé)電控散射效應的形(xíng)式來實現的。其(qí)光學性質與晶粒尺寸(cùn)密切(qiē)相關。在粗(cū)晶粒陶瓷(一般(bān)晶粒尺(chǐ)寸大於(yú)2~32~3μm)m)中,主(zhǔ)要是電控(kòng)光散射效應;在(zài)細晶陶(táo)瓷(cí)中主(zhǔ)中(zhōng),主(zhǔ)要(yào)是電(diàn)控光(guāng)散射效應;在(zài)細(xì)晶陶(táo)瓷(cí)中(zhōng)主(zhǔ)要是電(diàn)控要(yào)是電控雙(shuāng)折(zhē)射效應。

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