磁控離(lí)子濺射(shè)儀

產(chǎn)品介紹：

離子(zǐ)濺射(shè)儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜(mó)技(jì)術開發研製成高(gāo)科(kē)技產(chǎn)品(pǐn)，作為掃描電(diàn)鏡所需要的一(yī)款製樣(yàng)儀器(qì)，可以配合(hé)掃(sǎo)描電(diàn)子(zǐ)顯微鏡(jìng)很(hěn)方便(biàn)的(dí)觀測試(shì)樣的微觀(guān)形貌，從而提高試樣(yàng)的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性
。該儀(yí)器為全閉環真空設計配有全(quán)量程皮(pí)拉(lā)尼(ní)真(zhēn)空計等(děng)多個(gè)傳(chuán)感器實時(shí)監控運(yùn)行狀態，保證(zhèng)儀器安全(quán)穩定運(yùn)行
。自動磁(cí)控離子濺射(shè)儀采用(yòng)高(gāo)性能旋真空(kōng)泵(bèng)快速獲得<1Pa的(dí)真(zhēn)空環境，高(gāo)精度的濺(jiàn)射(shè)電(diàn)源(yuán)采(cǎi)用(yòng)恒流控製來(lái)保證高(gāo)精(jīng)細(xì)的(dí)膜層質量(liáng)
。同時平麵(miàn)磁控(kòng)測射(shè)陰極(jí)減少(shǎo)等(děng)離子(zǐ)體(tǐ)對(duì)試樣(yàng)表(biǎo)麵的轟擊和(hé)熱效(xiào)應，高性(xìng)能的(dí)平(píng)麵磁控(kòng)濺射(shè)陰極(jí)可實現多(duō)種靶材的選(xuǎn)擇 (Au
，Pt
，Ag
，Pd等)，高(gāo)精(jīng)度(dù)的納米塗(tú)層(céng)為納米(mǐ)級(jí)別，可滿足現(xiàn)代分(fēn)析(xī)實驗(yàn)要求(qiú)
。可用於製(zhì)備高(gāo)質量的金屬薄(báo)膜
，半(bàn)導體(tǐ)薄(báo)膜(mó)
，介(jiè)電
，絕(jué)緣(yuán)材料(liào)薄膜以(yǐ)及(jí)復(fù)合薄膜
，多(duō)層異(yì)質結(jié)等(děng)
。

應用(yòng)領(lǐng)域：

光學領(lǐng)域：中(zhōng)頻閉(bì)場非(fēi)平衡磁控濺(jiàn)射(shè)技術(shù)應用於光(guāng)學(xué)薄膜(mó)（如(rú)減反(fǎn)射膜(mó)）
，低輻(fú)射玻(bō)璃和透明(míng)導(dǎo)電玻璃(lí)
；

微(wēi)電子領域：用(yòng)於(yú)沉(chén)積具(jù)有吸收(shōu)
，透射(shè)
，反射(shè)
，折射(shè)
，偏(piān)振等(děng)功能的薄膜(mó)，如低溫下沉積氮(dàn)化矽(guī)增(zēng)透膜(mó)以(yǐ)提(tí)高(gāo)太(tài)陽能電(diàn)池的光電轉換效(xiào)率
。

高溫超導薄膜(mó)
，鐵電(diàn)薄膜(mó)
，巨(jù)磁(cí)阻薄(báo)膜(mó)等(děng)領(lǐng)域：磁控(kòng)濺(jiàn)射技術在(zài)這些領(lǐng)域的研究(jiū)中發揮著重(zhòng)要(yào)作用(yòng)
；