高(gāo)壓漏電(diàn)起痕(hén)試驗(yàn)裝置

HCLD-Ⅲ型(xíng)

一(yī)，高壓漏電起痕試驗(yàn)裝(zhuāng)置測(cè)試儀(yí)器產品概述：

采(cǎi)用(yòng)5組(zǔ)電流(liú)傳感器(qì)用(yòng)以控製(zhì)每組(zǔ)試驗的高(gāo)壓(yā)切斷，使數據采(cǎi)集精確，同時(shí)本設備采(cǎi)用電(diàn)力(lì)係(xì)統(tǒng)過(guò)壓過(guò)流保(bǎo)護裝置(zhì)使儀器(qì)。

二，高(gāo)壓漏電起(qǐ)痕試(shì)驗裝置測(cè)試(shì)儀(yí)器符(fú)合標(biāo)準(zhǔn)：

高壓漏電起痕(hén)試驗機適(shì)用於(yú)對電工電子產品，家(jiā)用(yòng)電器(qì)及其材料(liào)進行(háng)耐電痕化和(hé)蝕損(sǔn)的試(shì)驗，模(mó)擬在工(gōng)頻(pín)（48Hz - 62Hz）下(xià)，用(yòng)液體汙染物(wù)和斜(xié)麵(miàn)試樣，通過耐(nài)電(diàn)痕化(huà)和蝕損(sǔn)的測量評定(dìng)環境(jìng)條(tiáo)件(jiàn)下使用(yòng)的(dí)電氣(qì)絕緣(yuán)材料(liào)的耐電痕化(huà)和蝕損(sǔn)等級(jí)。本機是嚴格按(àn)照(zhào)GB/T6553-2003 及(jí) IEC60587-1984設計(jì)製造。

三，技(jì)術(shù)指(zhǐ)標

1，電極：厚(hòu)0.5mm 材質：不鏽(xiù)鋼；

2，上下(xià)電極(jí)距離：50.0mm±0.1；

3，試(shì)驗(yàn)電壓：100V-6000V；

4，調壓器：輸(shū)出(chū)：0～250V可以調，容(róng)量(liáng)5KVA；

5，試驗變壓器：容量5KVA，zui高(gāo)輸(shū)出電壓(yā)AC6000V（或(huò)DC6000V可(kě)選(xuǎn)）；

6，穩(wěn)壓器：輸出AC220V 功率(shuài)6000W，精度±1%；

7，回路(lù)電流為60mA時，切斷(duàn)電(diàn)壓(yā)輸(shū)出(chū)；

8，試驗時(shí)間：6小時；

9，滴液精(jīng)度(dù)：0.5%；

10，電(diàn)壓(yā)穩(wěn)定(dìng)度：±1%；

11，起(qǐ)痕判斷：

依(yī)標(biāo)準GB/T6553-2003/4.1.2規(guī)定(dìng)，在試樣(yàng)上(shàng)施(shī)加電壓（2.5k V,3. 5k V和(hé)4.5k V），並以(yǐ)一定(dìng)流(liú)速(sù)滴汙染液，在(zài)60mA以下的電流持續(xù)6H不過(guò)流(liú)即(jí)為通過(guò)。

12，滴液裝置(zhì)：

采用(yòng)雷弗精密(mì)蠕動(dòng)泵，流量範(fàn)圍(wéi)0.00185 ～20毫升/分鐘(zhōng)，工作轉速0.1～50轉(zhuǎn)/分鐘，流量精(jīng)度(dù)誤(wù)cha：＜0.5%；（根據(jù)試驗電壓(yā)自動控製(zhì)）

13，輸(shū)出(chū)電(diàn)壓(yā)：交流/直(zhí)流(liú)（可(kě)切換）

14，實驗組數(shù)：五(wǔ)組(zǔ) 15，控(kòng)製(zhì)裝置：采用PLC+中(zhōng)國台灣威(wēi)綸(lún)觸摸屏(píng)控製(zhì)，控製精(jīng)密，操(cāo)作簡單(dān)，設(shè)計人性(xìng)化，試(shì)驗結(jié)束自動生成報告(gào)，麵板(bǎn)熱敏打印機(jī)可以(yǐ)適時打(dǎ)印試驗結(jié)果(guǒ)； 15，工作室(shì)體積(jī)：900L*650W*950H(mm)；容積為(wéi)0.56m3。

15，汙液(yè)槽采用(yòng)316不(bù)鏽鋼(gāng)，加裝密(mì)閉裝(zhuāng)置。