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HCLD-Ⅲ型(xíng)高壓漏(lòu)電起(qǐ)痕試驗(yàn)裝(zhuāng)置(zhì)測試(shì)儀器(qì)

簡(jiǎn)要描(miáo)述:HCLD-Ⅲ型高(gāo)壓(yā)漏電(diàn)起(qǐ)痕(hén)試(shì)驗裝(zhuāng)置測試儀器,高壓漏(lòu)電試驗(yàn)儀采用控製係(xì)統(tǒng)精(jīng)度(dù)高,摈(bìn)棄了現有的低(dī)壓(yā)切斷(duàn)原原理,采用高(gāo)壓(yā)真空(kōng)切斷技術(shù),使試驗(yàn)過程(chéng)合理(lǐ)。采用5組電流傳感器用以控(kòng)製(zhì)每組試(shì)驗的(dí)高(gāo)壓切斷(duàn),使(shǐ)數(shù)據采(cǎi)集(jí)精確,同時本(běn)設備采用(yòng)電力係(xì)統過(guò)壓過(guò)流(liú)保護(hù)裝(zhuāng)置。

  • 產品型(xíng)號(hào):
  • 廠商性(xìng)質:生產(chǎn)廠家
  • 更(gēng)新時間(jiān):2025-09-15
  • 訪(fǎng)  問  量(liáng):2713

詳細(xì)介(jiè)紹(shào)

品牌華測儀器應用(yòng)領域石油(yóu),能(néng)源,電子/電(diàn)池(chí),航(háng)空(kōng)航天,電(diàn)氣(qì)

華測(cè)HCLD-Ⅲ型(xíng)高(gāo)壓(yā)漏(lòu)電起痕試驗裝置




HCLD-Ⅲ型高壓漏電起(qǐ)痕試驗(yàn)裝(zhuāng)置測試儀器產品概(gài)述:
  高壓漏(lòu)電試驗儀采(cǎi)用控(kòng)製係統(tǒng)精度高,摈棄了現(xiàn)有的低壓切斷原(yuán)原(yuán)理,采用*的高(gāo)壓(yā)真(zhēn)空切(qiē)斷(duàn)技(jì)術(shù),使試(shì)驗過(guò)程合(hé)理(lǐ)。采用(yòng)5組電(diàn)流傳(chuán)感器用以控製(zhì)每(měi)組試驗(yàn)的(dí)高壓(yā)切斷(duàn),使(shǐ)數據采集(jí)精確(què),同(tóng)時本(běn)設備采(cǎi)用電力係統過壓過(guò)流保護裝(zhuāng)置(zhì),使(shǐ)儀器(qì)。


二,HCLD-Ⅲ型高壓漏(lòu)電(diàn)起(qǐ)痕試驗裝(zhuāng)置測試儀器(qì)符合(hé)標準:

高(gāo)壓(yā)漏(lòu)電起痕(hén)試(shì)驗(yàn)機(jī)適用(yòng)於對電(diàn)工電子產(chǎn)品,家(jiā)用(yòng)電器及其材(cái)料(liào)進行(háng)耐(nài)電(diàn)痕化(huà)和蝕損的試(shì)驗(yàn),模(mó)擬(nǐ)在工(gōng)頻(48Hz - 62Hz)下,用(yòng)液(yè)體汙(wū)染(rǎn)物和(hé)斜(xié)麵試樣(yàng),通(tōng)過耐電(diàn)痕化(huà)和蝕(shí)損的(dí)測(cè)量評(píng)定(dìng)在(zài)嚴(yán)酷環境(jìng)條件(jiàn)下(xià)使用(yòng)的(dí)電(diàn)氣絕緣材(cái)料的耐(nài)電痕化和蝕(shí)損等(děng)級(jí)。本機(jī)是嚴格按照GB/T6553-2003 及 IEC60587-1984設計(jì)製(zhì)造。

三(sān),技術指標(biāo)

1,電極(jí):厚0.5mm 材(cái)質(zhì):不鏽(xiù)鋼(gāng);

2,上(shàng)下(xià)電極(jí)距離:50.0mm±0.1;

3,試(shì)驗(yàn)電(diàn)壓:100V-6000V;

4,調壓器:輸(shū)出:0~250V可以調,容(róng)量(liáng)5KVA;

5,試(shì)驗(yàn)變(biàn)壓器(qì):容量5KVA,zui高輸出電壓AC6000V(或DC6000V可選(xuǎn));

6,穩壓(yā)器:輸(shū)出(chū)AC220V 功率(shuài)6000W,精度(dù)±1%;

7,回路(lù)電流為(wéi)60mA時(shí),切(qiē)斷電壓輸(shū)出;

8,試(shì)驗時(shí)間:6小(xiǎo)時;

9,滴液精度:0.5%;

10,電壓穩定度:±1%;

11,起痕(hén)判斷:

依標(biāo)準(zhǔn)GB/T6553-2003/4.1.2規定,在(zài)試(shì)樣(yàng)上施(shī)加電(diàn)壓(yā)(2.5k V,3. 5k V和4.5k V),並以一定流(liú)速(sù)滴(dī)汙染液,在(zài)60mA以(yǐ)下(xià)的電流(liú)持(chí)續6H不過(guò)流(liú)即為(wéi)通(tōng)過(guò)。

12,滴液裝置(zhì):

采用(yòng)雷(léi)弗(fú)精密蠕動泵,流量範圍(wéi)0.00185 ~20毫(háo)升/分鐘,工(gōng)作(zuò)轉速0.1~50轉(zhuǎn)/分(fēn)鐘(zhōng),流量(liáng)精度誤(wù)cha:<0.5%;(根據(jù)試驗電壓自(zì)動控製)

13,輸出(chū)電(diàn)壓:交流(liú)/直流(liú)(可(kě)切(qiē)換)

14,實驗組(zǔ)數:五組(zǔ) 15,控製(zhì)裝(zhuāng)置:采(cǎi)用PLC+中(zhōng)國(guó)台灣威(wēi)綸觸摸屏控製(zhì),控製精(jīng)密(mì),操作簡單(dān),設計人性化(huà),試驗結(jié)束(shù)自(zì)動生成(chéng)報(bào)告(gào),麵板熱敏打印機可以適(shì)時打(dǎ)印試(shì)驗結(jié)果; 15,工作(zuò)室(shì)體積(jī):900L*650W*950H(mm);容(róng)積為0.56m3。

15,汙液(yè)槽(cáo)采用316不(bù)鏽(xiù)鋼,加(jiā)裝(zhuāng)密閉(bì)裝(zhuāng)置。







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