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當(dāng)前位置(zhì)：首頁 > 產品(pǐn)中(zhōng)心 > 新品(pǐn)推薦 > 真空晶圓(yuán)退火爐 > Huace-1200G高溫真空(kōng)退(tuì)火爐(lú)簡要(yào)描述(shù)：華測儀器Huace-1200G高溫真(zhēn)空(kōng)退火(huǒ)爐(lú)設(shè)備(bèi)的反射(shè)鏡采用高準度曲率設計，通(tōng)過五軸加(jiā)工係統製(zhì)造(zào)，以(yǐ)維持更高的(dí)反射效(xiào)率(shuài)。
產品型號：Huace-1200G廠(chǎng)商性(xìng)質：生(shēng)產廠家更新(xīn)時(shí)間(jiān)：2026-04-08訪 問 量(liáng)：521產品分(fēn)類
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| 品牌 | 華測儀器 | 產(chǎn)地類別(bié) | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 能(néng)源,航空(kōng)航天(tiān),汽車(chē)及(jí)零部件(jiàn),電氣,綜(zōng)合 |
華測(cè)儀(yí)器(qì)Huace-1200G高溫真(zhēn)空(kōng)退(tuì)火爐(lú)
價格僅供參(cān)考，如(rú)需獲取(qǔ)更詳(xiáng)盡的(dí)產品技術(shù)規(guī)格書，定製方案(àn)或(huò)應用案例，歡迎(yíng)致電(diàn)我(wǒ)司技(jì)術(shù)工程師
Huace-1200G高溫(wēn)真空(kōng)退火爐由華測儀器(qì)生產，是(shì)在真空環(huán)境下，對(duì)半(bàn)導體晶(jīng)圓進行(háng)高溫(wēn)熱處(chǔ)理的設備，主(zhǔ)要用(yòng)於消(xiāo)除應力，優(yōu)化(huà)材料結(jié)構(gòu)，增(zēng)加(jiā)電(diàn)學性(xìng)能(néng)。在升降(jiàng)溫過程中(zhōng)仍(réng)能保(bǎo)持(chí)穩定均(jūn)匀的(dí)溫(wēn)度場(cháng)，可實現寬範(fàn)圍(wéi)均(jūn)熱區，高速(sù)加熱(rè)與高(gāo)速(sù)降溫(wēn)。樣(yàng)品(pǐn)由(yóu)石英管(guǎn)保(bǎo)護，無氣氛汙染，更適合半導(dǎo)體(tǐ)工藝使(shǐ)用(yòng)。反(fǎn)射(shè)鏡主(zhǔ)要分(fēn)為(wéi)圓形和(hé)拋(pāo)物綫型兩種，可(kě)滿足不(bù)同材(cái)料在(zài)不(bù)同(tóng)溫(wēn)度控(kòng)製條件下的測試(shì)需求。
產(chǎn)品參數
產品型號(hào)：Huace-1200G
產(chǎn)品(pǐn)尺寸：6寸(cùn)晶圓或(huò)150x150mm產品
溫度(dù)範圍：RT ~ 800/1200/1450°C
升(shēng)溫(wēn)速度(dù)：＜100℃/s可編(biān)程(chéng)（此溫度(dù)不含載盤的升(shēng)溫(wēn)速度）
＜25℃/s（SiC載盤）
溫度均(jūn)匀度：±5 °C ≤ 500 ℃
±1 % > 500 ℃
溫(wēn)度控製重(zhòng)復性：±1 °C
溫控(kòng)方式(shì)：PID 溫(wēn)控
應(yīng)用領(lǐng)域(yù)
電(diàn)子(zǐ)材(cái)料
半導(dǎo)體用矽化(huà)合化(huà)的PRA(加熱(rè)後(hòu)急速(sù)降溫)
陶(táo)瓷與無(wú)機(jī)材料
半導(dǎo)體(tǐ)用矽(guī)化(huà)合化的PRA(加熱後急速降(jiàng)溫(wēn))
鋼鐵和金屬(shǔ)材料
高真空(kōng)熱處理(1000℃以(yǐ)下)
其他
高(gāo)溫拉伸(shēn)壓(yā)縮(suō)試(shì)驗爐(lú)
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