Huace 1400-XY 1400℃高溫原位(wèi)光(guāng)學位移加熱(rè)台(tái)

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Huace 1400-XY 1400℃高(gāo)溫原位光學位(wèi)移加熱台(tái)由(yóu)華測(cè)儀器生(shēng)產，可(kě)實(shí)現(xiàn)室溫(wēn)至 1400℃穩定(dìng)可(kě)控(kòng)加熱，具(jù)備光學觀測(cè)兼(jiān)容性。設備(bèi)采用耐高(gāo)溫(wēn)陶(táo)瓷加(jiā)熱體(tǐ)與(yǔ)高(gāo)溫(wēn)阻(zǔ)絲加熱結構，搭配(pèi) PID 控溫算法(fǎ)與高準度(dù) S 型(xíng)熱(rè)電偶(ǒu)，確(què)保溫(wēn)度準確(què)調控與(yǔ)長期穩定。配(pèi)備 XY 雙向可調(tiáo)載(zǎi)樣(yàng)台(tái)，位(wèi)移 ±6mm，精度 0.01mm，可(kě)在高溫過程中(zhōng)靈活(huó)調整(zhěng)樣品觀測位置(zhì)，適用(yòng)於(yú)材料(liào)科(kē)學，冶金，陶瓷，地(dì)質及半(bàn)導體等(děng)領域，用(yòng)於(yú)高(gāo)溫下(xià)樣(yàng)品相變，熱膨脹，燒(shāo)結，熔(róng)化等(děng)過程研究(jiū)。

主(zhǔ)要(yào)技術指(zhǐ)標

加(jiā)熱(rè)方式：電阻加(jiā)熱(rè)（高(gāo)溫阻絲(sī)）

溫(wēn)度(dù)範圍(wéi)：室溫(wēn)~1400℃

溫度(dù)穩(wěn)定(dìng)性(xìng)：±0.1℃

溫(wēn)度分辨率：0.1℃

升溫速率：1~150℃/min（可定點(diǎn) / 程(chéng)序段(duàn)控(kòng)溫(wēn)）

控溫方(fāng)式：PID準(zhǔn)確(què)控溫

載(zǎi)樣(yàng)台材(cái)質：陶瓷

可達樣品高(gāo)度：4mm

樣(yàng)品台位移：X/Y 軸(zhóu) ±6mm，精(jīng)度 0.01mm

光(guāng)路(lù)：反(fǎn)射光路

上(shàng)視(shì)窗尺(chǐ)寸：Φ3mm

腔(qiāng)室(shì)環境(jìng)：真空(kōng)/惰性氣氛(fēn)（Ar，N₂）/大氣(qì)

外(wài)殼冷卻：循(xún)環(huán)水

選(xuǎn)配：真(zhēn)空係統，定製水循(xún)環(huán)係(xì)統，定製軟(ruǎn)件控溫(wēn)係(xì)統