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  • HCLD-2塑料(liào)漏電起痕(hén)老化試驗設備(bèi)
    HCLD-2塑(sù)料(liào)漏電起(qǐ)痕老化試驗設備

    更新(xīn)時間(jiān):2026-07-13

    型號(hào):HCLD-2

    瀏覽量:55

    華(huá)測儀(yí)器HCLD-2塑(sù)料漏電起(qǐ)痕(hén)老(lǎo)化試驗(yàn)設(shè)備用(yòng)以(yǐ)評價固體絕緣材(cái)料表(biǎo)麵在電場(cháng)和潮濕或汙染(rǎn)介(jiè)質聯合作用下的耐漏電性能,測定其(qí)相比電痕化(huà)指(zhǐ)數(shù) (CTI) 和耐電痕化指數(PTI) 。
    了(liǎo)解(jiě)詳情(qíng)
  • HCLD-2相(xiāng)比(bǐ)漏(lòu)電起痕指數測定(dìng)儀
    HCLD-2相(xiāng)比(bǐ)漏電(diàn)起痕指(zhǐ)數測(cè)定儀(yí)

    更新時(shí)間:2026-07-13

    型(xíng)號:HCLD-2

    瀏覽(lǎn)量(liáng):47

    華測(cè)儀(yí)器HCLD-2相比(bǐ)漏電(diàn)起痕指數測定儀(yí)用以評價(jià)固體絕(jué)緣材料(liào)表麵在電場和潮(cháo)濕或汙染介(jiè)質聯合(hé)作用下(xià)的耐漏電(diàn)性(xìng)能(néng),測定(dìng)其(qí)相比電痕化指(zhǐ)數(shù) (CTI) 和耐(nài)電(diàn)痕(hén)化(huà)指(zhǐ)數(PTI) 。
    了解(jiě)詳情(qíng)
  • HCLD-2絕緣(yuán)材(cái)料漏電(diàn)起痕(hén)測試(shì)儀
    HCLD-2絕緣(yuán)材料漏(lòu)電(diàn)起痕(hén)測試(shì)儀(yí)

    更(gēng)新時間:2026-06-12

    型(xíng)號:HCLD-2

    瀏覽(lǎn)量(liáng):201

    華測(cè)儀(yí)器HCLD-2絕緣材(cái)料漏電(diàn)起(qǐ)痕測試儀(yí)電痕化是(shì)指(zhǐ)固(gù)體絕緣(yuán)材料(liào)在電(diàn)應(yīng)力(lì)和電解(jiě)雜(zá)質的(dí)聯合(hé)作(zuò)用(yòng)下,在(zài)表麵(miàn)(或內(nèi)部)產(chǎn)生導電通(tōng)道。
    了(liǎo)解詳(xiáng)情(qíng)
  • HCLD-2固(gù)體絕緣材(cái)料低(dī)壓耐電(diàn)痕(hén)測(cè)試裝置(zhì)
    HCLD-2固(gù)體絕(jué)緣材(cái)料(liào)低壓耐(nài)電痕測試(shì)裝置

    更(gēng)新時(shí)間:2026-06-12

    型號(hào):HCLD-2

    瀏覽(lǎn)量:185

    華測儀(yí)器(qì)HCLD-2固體(tǐ)絕(jué)緣材(cái)料(liào)低(dī)壓(yā)耐電痕(hén)測試裝(zhuāng)置是根據耐(nài)漏(lòu)電起痕試(shì)驗(電痕化(huà)指數試驗)的(dí)標準(zhǔn),規(guī)定(dìng)的模擬仿(fǎng)真試驗項目(mù)。
    了(liǎo)解(jiě)詳(xiáng)情(qíng)
  • HCLD-2CTI 絕(jué)緣材料(liào)低(dī)壓漏(lòu)電起痕測試(shì)係統(tǒng)
    HCLD-2CTI 絕緣材料低壓漏電起(qǐ)痕(hén)測(cè)試係統

    更(gēng)新時間(jiān):2026-05-09

    型(xíng)號:HCLD-2

    瀏覽(lǎn)量:354

    華(huá)測儀器HCLD-2 CTI 絕緣材料低(dī)壓(yā)漏(lòu)電起(qǐ)痕(hén)測(cè)試係(xì)統(tǒng)用(yòng)以評(píng)價固(gù)體(tǐ)絕緣材(cái)料(liào)表麵在電(diàn)場(cháng)和(hé)潮濕或(huò)汙染介(jiè)質(zhì)聯(lián)合(hé)作(zuò)用(yòng)下(xià)的耐(nài)漏(lòu)電(diàn)性(xìng)能,測定其相比(bǐ)電(diàn)痕化(huà)指(zhǐ)數(shù) (CTI) 和(hé)耐電(diàn)痕化(huà)指數(PTI) 。
    了解(jiě)詳情
  • HCLD-2耐(nài)漏(lòu)電(diàn)起痕指(zhǐ)數(PTI)測(cè)試儀(yí)
    HCLD-2耐漏電(diàn)起(qǐ)痕(hén)指數(shù)(PTI)測試儀(yí)

    更(gēng)新(xīn)時間:2026-03-31

    型(xíng)號:HCLD-2

    瀏覽量:673

    華測儀(yí)器 HCLD-2耐漏(lòu)電起痕指數(PTI)測(cè)試儀是根據耐漏(lòu)電(diàn)起(qǐ)痕(hén)試驗(電痕化指(zhǐ)數試驗)的標(biāo)準(zhǔn),規(guī)定的(dí)模(mó)擬仿真(zhēn)試(shì)驗(yàn)項目(mù)。
    了(liǎo)解詳情
  • HCLD-III電痕化高(gāo)壓(yā)漏(lòu)電起(qǐ)痕試(shì)驗裝(zhuāng)置(zhì)測試儀(yí)器
    HCLD-III電(diàn)痕化高壓漏電起(qǐ)痕試驗裝(zhuāng)置(zhì)測(cè)試(shì)儀(yí)器

    更新時間:2024-06-05

    型(xíng)號(hào):HCLD-III

    瀏覽(lǎn)量:2895

    電痕(hén)化(huà)高壓漏電起痕(hén)試驗裝(zhuāng)置測試儀器 是(shì)在(zài)固體絕緣(yuán)材(cái)料表(biǎo)麵上(shàng),在規(guī)定尺寸(cùn)( 2mm × 5mm )的(dí)鉑(bó)電極(jí)之間(jiān),施加某(mǒu)一(yī)電(diàn)壓(yā)並(bìng)定時(shí)(30s)定(dìng)高(gāo)度( 35mm )滴下規定液滴體(tǐ)積(jī)的汙(wū)染(rǎn)液(yè)體(tǐ)(0.1%NH 4 CL),用以評(píng)價固體絕緣(yuán)材料表(biǎo)麵在電場和(hé)汙(wū)染(rǎn)介質聯(lián)合作(zuò)用(yòng)下的(dí)耐受(shòu)能力,測(cè)定其(qí)相(xiāng)比電(diàn)痕化(huà)指數(CT1)和(hé)耐電痕(hén)化指(zhǐ)數(PT1)。
    了(liǎo)解詳(xiáng)情(qíng)
  • HCLD-III固體絕緣材料高壓(yā)漏電起痕試(shì)驗(yàn)裝(zhuāng)置測試儀器
    HCLD-III固體(tǐ)絕緣材(cái)料(liào)高壓漏電起痕試驗裝(zhuāng)置測(cè)試儀器

    更新時間:2024-06-05

    型號:HCLD-III

    瀏覽(lǎn)量:2884

    固(gù)體絕緣(yuán)材(cái)料高(gāo)壓漏電(diàn)起(qǐ)痕試驗裝置(zhì)測試儀(yí)器是(shì)在固體(tǐ)絕緣材(cái)料(liào)表麵(miàn)上,在規定(dìng)尺寸( 2mm × 5mm )的鉑電(diàn)極之間(jiān),施(shī)加某(mǒu)一(yī)電壓(yā)並(bìng)定時(30s)定高度(dù)( 35mm )滴下規(guī)定(dìng)液(yè)滴體積(jī)的汙染液(yè)體(tǐ)(0.1%NH 4 CL),用以(yǐ)評價固體(tǐ)絕緣(yuán)材料表麵在電場(cháng)和汙染介(jiè)質聯合(hé)作用(yòng)下的(dí)耐受能力(lì),測(cè)定(dìng)其相(xiāng)比電(diàn)痕化指數(shù)(CT1)和耐電痕化指數(PT1)。
    了解詳情(qíng)
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